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经济报社客户 董庆森 湖北幸福电子近日以4626.78万元获得湖北三峡研究院重大科技成果“光刻胶用光引发剂制备专有技术及实验设备”。如果这种半导体领域的“卡脖子”技术推向市场，外国公司对该材料的长期垄断将被打破。 湖北三峡研究院光引发剂项目研发负责人介绍，此次转让获得的G/I线光刻胶主要光引发剂技术将主要应用于芯片和显示器领域。 芯片制造需要数百种设备和材料，其中光刻设备和光刻胶通常被称为产品“堆叠”。光引发剂对光刻胶的灵敏度和分辨率起着决定性的作用。 “目前，在国内芯片和显示器，光刻胶的光引发剂几乎全部从美国、日本和韩国进口，依赖率超过95%。”该负责人表示。 “这是市场需求驱动的研发创新。 “企业提出问题，研究所回答。”湖北三峡研究院院长迟如安透露，微电子新材料是三峡研究院的研究方向之一。近年来，不少半导体客户表示，由于光引发剂限购、供应减少，国产光刻胶多次“卡壳”，给国家半导体产业链的生产、出口带来了巨大压力。 专门生产电子级磷酸、电子级硫酸等芯片蚀刻产品的甲府电子，志在进军光引发剂行业，但0比1的研发风险是个问题。 “一旦研发“一旦失败，巨大的投入和时间成本将是公司难以承受的。”幸福电子总工程师何兆波表示，公司想到了三峡研究院。 幸福电子提出研发需求后，中国三峡研究院立即决定开展光引发剂关键技术研究。 “针对行业需求开展研发，是湖北研究院的特色和使命。”栾齐说。 经过三年的研发，今年5月，上海一家大型光刻胶企业回复三峡研究院称，提交的样品各项指标已达到国外进口厂商的同等水平。此后，中试样品在多家光刻胶企业通过了初步验证，相关技术终于具备了产业化的条件。 池阮表示，这个成绩已进入产业化初级阶段。一旦投产，将成为湖北省首条光刻胶光引发剂生产线，为我国光刻胶行业的发展发挥积极作用。 据了解，幸福电子已启动相关产业化项目建设。建成后将成为省内第一条光刻胶光引发剂生产线。同时，该项目还将与湖北省的光刻胶制造商和存储芯片制造商建立合作，进一步开放该技术。从而连接“实验室”与“生产线”，构建“上游材料→中间光刻胶→下游芯片制造”的完整链条，实现技术研究与产品应用的相互促进，为湖北省打造万亿级光电信息产业集群提供有力支撑。在该项目达产达产后，G/I线光刻胶产品国内市场占有率预计将达到50%以上。